F20具有标准点和反射探针
多孔硅
已经有大量研发工作多孔硅最近几年。大部分兴趣是由于多孔硅在广泛的应用中使用的重要许可，包括光学装置，气体传感器和生物医学装置。欧宝网页版登录
与大多数新材料技术一样，多孔硅开发的一部分挑战一直是特征各种材料参数的发现工具。对于多孔硅，最基本的感兴趣的参数是层厚度和孔隙率。
其他重要参数涉及加工层，例如浸渍材料的分数或传感装置中吸附分子的量。电影化学®开发了一种独特的分析算法，揭示多孔硅的厚度，指数和孔隙率，单击单击。此算法在各种F20，F40和F50仪器上无需充电。
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厚度测量例子
多孔硅层的特征在于许多参数，但厚度和孔隙度是主要的。通常，使用重量测量等非破坏性方法来测量孔隙率，但这种方法的精度非常低。电影化学F20.，使用非破坏性技术，可以测量多孔硅膜的厚度和光学性质。电影化学学专有算法还允许使用单击单击单击，准确计算胶片孔隙率。
