电影化学^®提供几种测量光刻胶的仪器厚度和蚀刻率，都在单点和映射配置中。尽管光致抗蚀剂厚度的成功测量需要占独特挑战*，但在所有情况下，都可以使用通用仪器（见下表）。

测量SU-8.，Dow BCB和其他厚的光致抗蚀剂是一种特别重要的施用，因为旋涂，但快速且容易，可以是产生所需厚度的不准确的方法。由于曝光时间取决于抗蚀剂厚度，因此应采取精确的测量。此外，由于阳性和阴性光致抗蚀剂可以一起使用以形成复杂的多层MEMS.结构，了解每层的厚度变得非常重要。我们的F3-SX.尤其擅长测量厚的抗蚀剂，即使是可见光区域中的那些不透明。可以使用单点和映射版本。

Fimpetrics提供一系列桌面和测绘解决方案，用于测量单层，多层，甚至独立的光致抗蚀剂薄膜从1nm至3mm的厚度。所有Fimpetrics型号通过精确建模光谱反射率来测量厚度（和索引）。特殊专有算法允许鲁棒“一键单击”分析，结果通常在不到一秒钟内提供。

*这些挑战包括不与测量光源暴露抗蚀剂，可以访问覆盖广泛范围的折射率库光致抗蚀剂，并且能够处理光致抗蚀剂的倾向，以改变折射率的烘焙和曝光程度。

用于光致抗蚀剂测量，接触我们的任何薄膜专家。

电影化提供免费试用测量- 结果通常在1-2天内提供。