测量光学涂层和光学滤光片

光谱反射率和透射率用于光学涂层和滤光片上,以测量多层介电层中各层的厚度。多层电介质堆叠被用于各种需要精确光学滤波的应用,如军事、航空航天、建筑玻璃和各种类型的光学计量设备,包括拉曼欧宝网页版登录光谱和3D光学轮廓测量。

多层介质堆

多层介电层用于选择性地管理光的反射率和/或透射率。通过控制组成薄膜层的厚度,单独的高通(HP)、低通(LP)和带通(BP)滤波器可以组合在一起,以创建一个非常特定的滤波器。通常,2-3种不同的材料以交替的方式分层以产生所需的过滤效果,但是Filmetrics FILMeasure®软件算法可以容纳更多的东西,包括最近一个不为人知但在熔融二氧化硅衬底上有53层的商业堆栈的例子。

的Filmetrics®F10-RT旨在提供宽光谱范围和光传输测量能力,以解决测量多层/多参数薄膜堆厚度的挑战。

滤光片透光率的测量

为了测量光学透过率,光路中必须没有不透明层;任何背面不透明(散射)层应在透光率测量之前去除感兴趣的区域。

用于光学涂层和光学滤光片应用,欧宝网页版登录联系我们的薄膜专家。
Filmetrics提供免费试用测量-结果通常在1-2天内出来。

介质膜层厚度测量实例

在本例中,我们展示了玻璃上53层重复的TiO2和SiO2介电滤波器堆栈的测量。反射率和透射率数据收集使用我们的F10-RT可选UVX升级系统,提供190 - 1700nm的光谱范围。对于需要用许多变量建模的厚膜和/或复杂膜堆,更宽的波长范围提供了确定独特测量解决方案所需的额外数据。F10-RT反射率仪只需单击鼠标即可捕获反射率和透射光谱。

测量设置

F10-RT-UVX