集成电路故障分析

故障分析(FA)技术用于定位和识别集成电路故障的原因。

需要薄膜厚度测量的两种主要类型的FA应用是前侧延迟欧宝网页版登录(用于传统的设备侧电路封装)和背面变薄(对于较新的倒欧宝娱乐在线平台装芯片设备侧电路封装。)

前侧延迟

前侧延迟过程需要了解介电变薄后剩余的介质的厚度。电影化学®F40.是此应用的理想选择。

背面法

背面Fa需要去除在电路可以成像之前的大部分Si模具厚度,并且在每个细化步骤之后知道剩余Si的厚度是关键的。电影化学F3-SX.系统专门设计用于测量由各种背面稀释过程产生的粗糙Si层厚度的挑战。厚度为5μm至1000μm,易于测量,并且可以选择延伸到下降至0.1μm以下的最小厚度。单点和映射版本都可用。

接触我们的薄膜专家讨论您的介电应用。

电影化提供免费试用测量- 结果通常在1-2天内提供

厚度测量例子

在这里,我们使用我们的F3-S1550在背面变薄后测量在集成电路上剩余SI的厚度的系统。F3-S1550采用特殊光学器件,其产生小于10μm的光斑尺寸,允许测量抛光以及粗糙和非均匀层。

测量设置

F3-S1550使用SampleCam-SX