数以千计的介电膜用于光学，半导体和其他数十个行业和电影摄影。^®几乎可以测量所有这些仪器的库存仪器。这是一些最常见的介电：

SIO2 - 二氧化硅是最简单的测量材料之一，主要是因为它在大多数波长上是不吸收（k = 0）的，通常非常接近化学计量学（即Si：O比率非常接近1：O的恰好接近1：2）。热生长的SiO2特别良好，通常用于厚度和折射率标准。电影摄影具有可以从3nm到1mm厚的SIO2的系统。

SI3N4 - 氮化硅膜的测量比许多其他介电的测量更具挑战性，因为膜的Si：N比很少完全3：4，因此通常必须与膜厚度一起测量折射率。欧宝娱乐在线平台为了使事情复杂化，氧气通常无意间掺入膜中，从而在某种程度上产生氧气。幸运的是，我们的系统可以在几秒钟内完全表征您的SI3N4胶片，只需单击一个鼠标！

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电影摄影提供免费试用测量- 结果通常在1-2天内获得