F20具有标准点和反射探针
无定形和多晶硅
元素硅可以以无定形和结晶的形式存在，并且在这两个极端之间作为部分结晶的硅。部分结晶的形式通常称为多晶硅，或短的多晶硅。
无定形和多晶硅的光学常数（n和k）对沉积条件是独特的，并且必须测量精确的厚度测量。还必须考虑硅膜结晶度的粗糙度和可能的分级，并与厚度一起测量。
电影化学®仪器包括复杂的测量例程，同时测量并报告每个所需的硅膜参数，所有这些都是单击单击的所有所需的硅膜参数。
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厚度测量例子
多晶硅是基于硅的电子设备的广泛使用的材料。这些装置的效率取决于膜的光学和结构性质。这些属性随着沉积和退火条件的变化而变化，因此准确测量这些参数非常重要。在具有SiO 2中间层的监视器晶片上测量厚度和光学性质，以增加硅衬底和多晶硅膜之间的光学对比。多晶硅膜的厚度和光学性能和SiO 2中间层的厚度可以通过电影化学易于测量F20.。Brugmeman光学模型用于测量多晶硅膜的光学性质。
